SETO 1.60 Photochromic Lens SHMC

1) Wat ass Spin Coating?

Spinbeschichtung ass eng Prozedur déi benotzt gëtt fir eenheetlech dënn Filmer op flaach Substrate ze deposéieren.Normalerweis gëtt eng kleng Quantitéit Beschichtungsmaterial op den Zentrum vum Substrat applizéiert, deen entweder mat gerénger Geschwindegkeet dréit oder guer net dréit.De Substrat gëtt dann mat enger Geschwindegkeet bis zu 10.000 RPM rotéiert fir d'Beschichtungsmaterial duerch Zentrifugalkraaft ze verbreeden.Eng Maschinn déi fir Spinnbeschichtung benotzt gëtt nennt een Spin Coater, oder einfach Spinner.
D'Rotatioun gëtt weidergefouert, während d'Flëssegkeet vun de Kante vum Substrat dréint, bis déi gewënscht Dicke vum Film erreecht gëtt.Den ugewandte Léisungsmëttel ass normalerweis liichtflüchteg, a gläichzäiteg verdampft.Wat méi héich d'Wénkelgeschwindegkeet vum Spinn ass, dest méi dënn ass de Film.D'Dicke vum Film hänkt och vun der Viskositéit an der Konzentratioun vun der Léisung, an dem Léisungsmëttel of.[2]Pionéierend theoretesch Analyse vun der Spinbeschichtung gouf vum Emslie et al., a gouf vu ville spéider Autoren verlängert (dorënner Wilson et al., [4] déi den Taux vun der Verbreedung an der Spinbeschichtung studéiert hunn; an Danglad-Flores et al., [5] déi eng universell Beschreiwung fonnt hunn fir déi deposéiert Filmdicke virauszesoen).
D'Spinbeschichtung gëtt wäit an der Mikrofabrizéierung vu funktionnellen Oxidschichten op Glas oder eenzel Kristallsubstrater benotzt mat Sol-Gel Virgänger, wou et benotzt ka ginn fir eenheetlech dënn Filmer mat Nanoskala Dicken ze kreéieren.[6]Et gëtt intensiv an der Photolithographie benotzt, fir Schichten vu Photoresist ongeféier 1 Mikrometer déck ze deposéieren.Photoresist gëtt typesch bei 20 bis 80 Revolutiounen pro Sekonn fir 30 bis 60 Sekonnen gesponnen.Et gëtt och wäit benotzt fir d'Fabrikatioun vu planar photonesche Strukturen aus Polymeren.
Ee Virdeel fir dënn Filmer ze spinnen ass d'Uniformitéit vun der Filmdicke.Wéinst der Selbstnivellerung variéieren d'Dicke net méi wéi 1%.Wéi och ëmmer, Spinbeschichtung méi déck Filmer vu Polymeren a Photoresisten kënnen zu relativ grousse Randpärelen resultéieren, deenen hir Planariséierung kierperlech Grenzen huet.